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均温氧化分散炉

宣布时候:2020-08-26  阅读次数:405

 

装备简介:

均温氧化分散炉利用于半导体器件、分立器件、光电子器件、电力电子器件、太阳能电池及大规模集成电路制作等范畴对晶片停止分散、氧化、退火、合金及烧结等工艺,可用于2-8英寸工艺尺寸

 

  

设置装备摆设概况


 

装备特色:

1.温场平均,恒温区长度及精度:300~1250mm  800~1200℃±1℃

2.具备壮大的软件功效,NBD-101EP嵌入式操纵体系,用户能够便利地点窜工艺节制参数,并可随时显现各类工艺状况;配有毛病自诊断软件; 
3.法式能够完成手/主动任务,在停电或半途停机后,再次启动能够按照工艺手动升温,节流工艺时候; 
4.具备多种工艺管路,可供用户便利挑选; 
5.冷端检测环境温度停止温度弥补,避免环境温度变更,对炉膛温度发生影响,避免层间搅扰; 

6.可存储多组PID参数供体系运转挪用功效,具备多点温度弥补
7.气体流量接纳数字化切确节制,接纳摹拟旌旗灯号闭环节制,强弱电分隔,各类数据交互接纳规范总线,进步抗搅扰才能,保障数据宁静;气体翻开具备缓启动功效; 
8.具备多种报警功效及宁静掩护功效;
9.恒温区主动调剂,串级节制,可精确节制反映管的现实工艺温度; 
10.压力主动调剂手艺,将压力参数引入晶体硅氧化工艺,有用减小了尾部排风对工艺的搅扰,减小由排风引发的工艺动摇

可配工艺管外径

炉管外径152mm   合用于3";炉管外径252mm   合用于6";

炉管外径300mm   合用于8"

温度节制规模

300~1150 ℃

恒温区长度及精度

300~1250mm(依客户请求定)  300~800 ℃±1.5, 800~1100 ℃±1℃

可控起落温速度

升温速度:≦15/min  降温速度≦5/min

加热区个数

3区,4区,5区,6区(依客户请求定

送料体例

手动送料

冷却体系

水冷2-4Kgf/cm2,8L/min;+上接排风冷≈25m3/min;

轴向温场散布

 

径向温场散布

 

节制体系

 

1.可预存15条工艺曲线,避免差别的尝试工艺反复设置带来的费事;

2.尝试进程加倍直观,操纵加倍便利;

3.NBD-101EP嵌入式操纵体系中英文交换图形界面,10寸真彩触屏输出,智能式人机对话形式,非线性模样形状温度批改;

4.具备超温报警、断偶提醒、泄电掩护等功效。

加热腔体

 


接纳优良加热丝:KANTHAL及HRE

绝热资料:晶体纤维等

绝缘子:高纯刚玉间距根据温场调理

端口过渡环:氧化铝纤维真空成型。

温区:3段、4段、5段、6

 

真空密封体系

 

 

 

真空度:≤10Pa(机器泵)

供气体系

 

接纳质子流量计节制气体流速,与装备集成为一体

可选配名目

1. 出料口排毒气柜;

2. 污染出料台;

3. 主动石英浆推拉舟机构

装备利用注重事变

1. 装取样片必须带石棉手套,利用石英器件谨慎打坏;

2. 挑选适合的石英舟,掏出洁净好的石英托板和石英拉钩;

3. 装置样片拔出到石英舟的槽内,用石英拉钩将石英舟推入炉管到恒温区;

4. 炉管内压力不得跨越0.15MPa(相对压力),以避免压力过大引发风险

5.高真空下利用时),装备利用温度不得跨越1000℃

办事撑持

一年无限保修,供给毕生撑持(保修规模内不包含易耗部件,比方炉管和密封圈等)

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